晶飛科技將參展2014年慕尼黑上海光博會(huì),此次光博會(huì)預(yù)計(jì)將吸引來(lái)自近30個(gè)國(guó)家600家國(guó)內(nèi)外參展商,展示面積達(dá)34,500平方米!基礎(chǔ)研究到產(chǎn)業(yè)應(yīng)用,集中展示涵蓋E1館光學(xué)與光學(xué)制造、成像,檢測(cè)和質(zhì)量控制、E2和E3館激光加工與生產(chǎn)技術(shù)、激光器與光電子、四大板塊的全方位產(chǎn)品內(nèi)容,規(guī)劃集中明確。
展出時(shí)間:2014年3月18日-20日 展出地點(diǎn):上海新國(guó)際博覽中心E1、E2、E3館
展位號(hào):E1 1708號(hào)展臺(tái)
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